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產(chǎn)品展示/ Product display

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光刻膠去除劑高剪切分散機

光刻膠去除劑高剪切分散機新的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量:623
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詳細介紹
光刻膠去除劑高剪切分散機
  產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞:光刻膠去除劑分散機,高剪切清洗液均質(zhì)機,氧化物拋光液研磨分散機,超高速三級乳化機
  二、光刻膠去除劑
  根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同,公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產(chǎn)品,是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的濕化學品,通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片,去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物。
  三、光刻膠去除技術(shù)
  隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展,其關(guān)鍵尺寸逐漸降低到亞微米。濕法蝕刻工藝因其各向同性蝕刻特性,越來越不能滿足需求,干法蝕刻工藝應(yīng)運而生。干法蝕刻工藝提供各向異性蝕刻形成金屬線(metal)、通孔(via)的同時,其離子束對光刻膠及鋁硅銅、鋁銅、氧化物非介電質(zhì)材質(zhì)進行轟擊,使其表面形成高度交聯(lián)的光刻膠殘留物,同時因氬氣轟擊反濺作用,側(cè)壁富含金屬材質(zhì)。干法灰化工藝的采用,使其殘留物中含有有機、無機氧化物及其金屬化合物。這就要求光刻膠去除同時具有有機殘留物、無機殘留物以及金屬交聯(lián)殘留物去除能力。
光刻膠去除劑高剪切分散機
四、光刻膠剝離液氧化物分散問題
  在制備光刻膠去除劑中,需要加入一些無機氧化物或金屬化合物,以粉體的形式加入液中,納米的細小顆粒與液體介質(zhì)充分接觸時候,粒子相互之間的團聚力導(dǎo)致粉體出現(xiàn)團聚現(xiàn)象,光刻膠去除劑的技術(shù)要求,需將氧化物粉體在液相中均質(zhì)打開,分散均勻。GRS超高速研磨分散機是我公司好技術(shù)的主要產(chǎn)品,可很好的解聚,均質(zhì),分散。得到更穩(wěn)定的懸浮液。
  五、GRS超高速研磨分散機的優(yōu)勢
  研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
  研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
  超高剪切速率,SID研磨分散機,轉(zhuǎn)速高達18000rpm,線速度為44m/s,剪切速率為約為200000 S-1。而國內(nèi)普通分散機的轉(zhuǎn)速一般為3000rpm,我們的轉(zhuǎn)速是他們的4-5倍。
  超細定轉(zhuǎn)子間隙,SID研磨分散機定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而國產(chǎn)分散設(shè)備一般為0.5-0.7mm,間隙越小研磨分散效果越好。
  高精密度磨頭分散盤定轉(zhuǎn)子,分散盤分為粗、中、細、超細齒。
  4、全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。
  六、高剪切研磨分散機
  研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
  *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
  第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
光刻膠去除劑高剪切分散機

光刻膠去除劑高剪切分散機以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

GRS2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

GRS2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

GRS2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

GRS2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

GRS2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

GRS2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150




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